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本发明公开了一种制备抗磨蚀涂层时金属过渡层柱状结构的抑制方法，制备抗磨蚀涂层时以Cr靶和石墨靶为溅射靶材，先将金属过渡层沉积制备在金属基体上，然后在金属过渡层表面制备GLC涂层，特点是金属过渡层是使用高功率脉冲磁控溅射的方式沉积制备在金属基体上，在完成金属过渡层制备后，通过自然降温的方式冷却至室温，再使用高功率脉冲磁控溅射的方式制备GLC涂层，优点是可以有效地抑制金属过渡层的柱状结构的生长，提高GLC涂层致密性，使制备的抗磨蚀涂层与金属基体之间具有更强的结合力，无柱状缺陷且表面光滑，大大提高了耐
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117778975A
(43)申请公布日2024.03.29
(21)申请号202311811756.X
(22)申请日2023.12.27
(71)申请人宁波永新光学股份
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