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相位调制层的设计方法及发光元件的制造方法.pdfVIP

相位调制层的设计方法及发光元件的制造方法.pdf

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    本发明的相位调制层的设计方法是作为包括发光部和与所述发光部光学耦合的相位调制层的iPMSEL的发光元件的所述相位调制层的设计方法，具备生成所述相位调制层的设计图案的生成工序，所述相位调制层包括基本层、及折射率与所述基本层不同且在与该相位调制层的厚度方向垂直的面内二维状地分布的多个异折射率区域，所述生成工序包括：生成第1设计图案的第1工序，该第1设计图案是用于设计所述异折射率区域使得所述异折射率区域的分布成为与所述发光元件的输出的光学图像对应的分布的图案，并包含与所述光学图像的亮点对应的亮点；及从

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117795794A

    (43)申请公布日2024.03.29

    (21)申请号202280055441.4(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限

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