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本公开提供了一种用于半导体外延设备尾气系统的气体处理结构，包括尾气过滤罐，包括第一罐体和第二罐体，第一罐体包括尾气入口、锥形端盖、制冷介质进出口、冷却盘管、中心管和外筒体；尾气入口和制冷介质进出口分别设置在锥形端盖上；冷却盘管设置在外筒体内，中心管设置在冷却盘管内；第二罐体包括滤芯、尾气输出管道和外筒体，滤芯设置在外筒体内，尾气输出管道设置在外筒体上；双磷阱包括：尾气输入管道、制冷介质进出口、双磷阱、捕集盘管、磷阱罐体和尾气输出管道，尾气输入管道与尾气输出管道通过尾气传输管道连接，双磷阱设置在磷
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117771842A
(43)申请公布日2024.03.29
(21)申请号202311864524.0
(22)申请日2023.12.29
(71)申请人中国科学院半导体研究所
地址1
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