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ITO导电膜玻璃

——平板显示器中薄膜材料的应用

一、ITO导电膜玻璃的定义

ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的。

液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行抛光处理，以得到更均匀的显示控制。

液晶显示器专用ITO玻璃基板一般属超浮法玻璃，所有的镀膜面为玻璃的浮法锡面。因此，最终的液晶显示器都会沿浮法方向，规律的出现波纹不平整情况。

在溅镀ITO层时，不同的靶材与玻璃间，在不同的温度和运动方式下，所得到的ITO层会有不同的特性。一些厂家的玻璃ITO层常常表面光洁度要低一些，更容易出现“麻点”现象；有些厂家的玻璃ITO层会出现高蚀间隔带，ITO层在蚀刻时，更容易出现直线放射型的缺划或电阻偏高带；另一些厂家的玻璃ITO层则会出现微晶沟缝。

二、ITO导电膜玻璃的分类

ITO导电玻璃按电阻分，分为高电阻玻璃（电阻在150~500欧姆）、普通玻璃（电阻在60~150欧姆）、低电阻玻璃（电阻小于60欧姆）。高电阻玻璃一般用于静电防护、触控屏幕制作用；普通玻璃一般用于TN类液晶显示器和电子抗干扰；低电阻玻璃一般用于STN液晶显示器和透明线路板。

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ITO导电玻璃按尺寸分，有14”x14”、14”x16”、20”x24”等规格；按厚度分，有2.0mm、1.1mm、0.7mm、0.55mm、0.4mm、0.3mm等规格，厚度在0.5mm以下的主要用于STN液晶显示器产品。

ITO导电玻璃按平整度分，分为抛光玻璃和普通玻璃。根据基板玻璃表面状态的不同，通常分为以下三种类型：

三、ITO导电膜玻璃的基本结构

Si02层：

Si02层的作用:

主要是防止钠钙型基板中的金属离子扩散渗透到ITO层中,影响ITO层的导电能力.

SiO2层的膜厚:

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标准膜厚一般为250±50埃

SiO2层中的其它成份:

通常为了提高ITO玻璃的透过率,在SiO2中会掺入一定比例的Si3N4ITO(IndiumTinOxid)层:

为氧化铟锡的透明导电层,其中I表示In2O3，T表示SnO2,一般Sn（即Tin)的含量约为10%。随着ITO层厚度的增加,ITO层的厚度逐渐减小.通常面电阻与ITO层膜厚的对应关系如下:

四、ITO玻璃的生产工艺流程

主要分为以下三个步骤：

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1、玻璃基片切割磨边的工艺流程：

切割 磨边倒角 清洗 检查 入库

2、磨边类型及规格要求：

通常分为C型和R型两种倒边C倒边（0.05mm≤宽度≤0.40mm）R倒边（0.20mm≤宽度≤1.00mm，曲率半径≤50mm）倒角（浮法方向2.0mmX5.0mm；其余1.5mmx1.5mm）

3、倒角的形状及公差：

抛光工艺流程：

用研磨料将玻璃表面磨平，使玻璃表面平整。对于STN型ITO玻璃是必须经过的一道生产流程。

镀膜工艺流程：

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镀膜的方法有：

喷雾法；涂覆法；浸渍法；化学气相沉积法；真空蒸发法；测射法，但目前工业化最有效的方法是磁控测射法。

磁控测射法：

在高真空反应室中充入一定比例的02和Ar的混合气体，在直流高压下，Ar被电离，在电场作用下轰击靶材，使铟和锡以原子和离子形式溅射出来，沉积在基板玻璃表面，同时被氧化，形成氧化铟锡膜。

五、ITO导电膜玻璃的评价参数

透过率在波长为550nm的光波照射下，具有SI02阻挡层玻璃的透过率不小于80%，其主要取决于玻璃材料、ITO厚度和折射率。透过率定义：透过玻璃的光通量T2与入射光通量T1之比的百分率Tt=T2/T1X100%。

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方块电阻:如图 d为膜厚，I为电流，L1为膜厚在电流方向上的长度，L2为膜层在垂直电流方向的长度，ρ为导电膜的体电阻率。ρ和d可以认为是不变的定值，当L1=L2时，为正方形的膜层，无论方块大小如何，其电阻率为定值ρ/d，这就是方块电阻的定义，即R□=ρ/d R=ρ×L1/(d×L2)

平整度：

ITO玻璃基板平整度参数包括：1、玻璃表面粗糙度；

2、基板表面波纹度；

3、基板翘曲度；

4、基板垂直