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衬底处理系统包括多区域冷却装置,以对衬底处理室中全部或基本上全部的窗提供冷却。在一方面,该装置包括一或更多个气室,以覆盖衬底处理室中全部或实质上全部的窗,其包括在衬底处理室中用于变压器耦合型等离子体的能量源下方。一或更多个空气放大器及随附导管提供空气至一或更多个气室,以提供气流至窗。这些导管连接至距离中心不同距离处的气室入口,以引导气流至整个窗,从而处理取决于室中所进行的工艺的中心热、中间热及边缘热状况。在一方面,该一或更多个气室包括中心空气入口,以引导空气朝向窗的中心部分,以处理中心热状况。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117810058A
(43)申请公布日2024.04.02
(21)申请号202311514845.8H01L21/67(2006.01)
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