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本发明公开了一种对位光学凸块的制作方法，包括：设计，在覆铜板覆感光膜后，于其预定位置设置对位光学凸块，围绕对位光学凸块设计保护环，成像显影后剥离多余的感光膜；蚀刻，将覆铜板置于蚀刻液中，使未被感光膜覆盖的铜层被蚀刻而露出基层，被感光膜覆盖的线路、对位光学凸块和保护环则留下来，在蚀刻的过程中，对位光学凸块的侧面在保护环的围绕下，对位光学凸块的侧面腐蚀程度小于保护环的腐蚀程度；后处理，将蚀刻完成的线路板进行阻焊操作和印字符操作，在对位光学凸块周围增加保护环保护对位光学凸块，蚀刻时因对位光学凸块周围有
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117812823A
(43)申请公布日2024.04.02
(21)申请号202311690002.3H05K1/02(2006.01)
(22)申请日2023.12.0
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