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本发明涉及热处理设备技术领域，公开了一种沉积炉、生产设备及气相沉积制备方法。沉积炉包括反应仓、过渡仓和沉积仓，反应仓设置有第一腔，第一腔被配置为具有第一温度T1；过渡仓设置有第二腔，第二腔被配置为具有第二温度T2；沉积仓设置有第三腔，第三腔用于沉积结晶，第三腔被配置为具有第三温度T3；其中，第一腔、第二腔和第三腔依次连通，满足：T1＜T2＜T3。通过在反应仓和沉积仓之间设置有过渡仓，并通过控制温度差实现三温区设置，能够使得原料在反应仓内蒸发后，蒸气先经过过渡仓再到达沉积仓，使得随着蒸气运动的原料
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117802575A
(43)申请公布日2024.04.02
(21)申请号202410224260.0C23C14/56(2006.01)
(22)申请日2024.02.
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