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本发明属于光学玻璃技术领域，公开了一种放电等离子体烧结制备低羟基掺钕氟磷酸盐玻璃的方法，以Sr(PO3)2、Ba(PO3)2、MgF2、AlF3、NdF3或NdI3为原料，按比例混合得配合料，经放电等离子体烧结、冷却，制得掺钕氟磷酸盐玻璃。烧结压力为250‑300kg，烧结温度为1000‑1200℃，保温时间15‑40min。本发明采用放电等离子体烧结烧结技术，成功制备了掺钕氟磷玻璃，较相同配方高温熔融法，本发明熔制温度降低200℃，羟基吸收系数从4.77cm‑1降至0.075cm‑1，寿命从3
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117800595A
(43)申请公布日2024.04.02
(21)申请号202410016762.4
(22)申请日2024.01.05
(71)申请人华南理工大学
地址5106
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