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本发明涉及镀膜技术领域，公开了一种等离子光栅脉冲激光沉积镀膜方法，包括如下步骤；步骤一、将基片和靶材料置于真空腔内；步骤二、打开飞秒激光器产生飞秒脉冲激光，飞秒脉冲激光经过分束模块分束后，形成多束飞秒脉冲激光；步骤三、其中一束作飞秒脉冲激光作为预脉冲经过聚焦之后进入真空腔，对靶材料进行激发形成等离子体；步骤四、余下的多束飞秒脉冲激光作为后脉冲经过延时同步模块调整同步后，聚焦形成光丝，在预脉冲激发形成的等离子体中形成等离子体光栅；步骤五、形成的等离子体光栅对靶材料进行二次激发形成等离子体，等离子体
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115181942A
(43)申请公布日2022.10.14
(21)申请号202210851047.3(51)Int.Cl.
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