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2024-04-06 发布于四川
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一种芯片清洗液、其制备方法及应用.pdf

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本发明涉及一种芯片清洗液、按照重量份计算，包括如下组分：功能活性组分1‑30份；有机碱10‑40份；螯合剂1‑20份；缓蚀剂1‑5份；超纯水10‑40份。本发明还公开了该清洗液的制备方法及应用。本发明清洗液使用了羟胺替代物作为主要的活性成分，可以保证清洗效果。有机碱既可提供碱性环境，有助于刻蚀后残留物的溶解，又可与活性物质协同作用。缓蚀剂和螯合剂两者结合形成了一个具有电负性的杂环结构。这样设计,一方面有效地避免了铝层与溶液的直接接触，大大降低了溶液对铝层的腐蚀；另一方面也有利于将金属残基和金属离

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117821182A

(43)申请公布日2024.04.05

(21)申请号202311773271.6

(22)申请日2023.12.21

(71)申请人浙江奥首材料科技有限公司

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