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本发明涉及硅片清洗技术领域，且公开了一种高纯氮气环境下的硅片清洗烘干系统及操作工艺，包括烘干机、桌腿和传送装置，桌腿顶部固定连接有底板，底板一侧固定连接有左板,底板另一侧固定连接有右板,右板顶部固定连接有顶板,右板通过顶板与左板固定连接,左板一侧设置有上料装置，上料装置共计两个，通过对上料装置中的试剂槽内放入清洗试剂，清洗试剂从入水柱中流向第三管道，由第三管道流向第二管道，从第二管道中流向第一管道，最后到达衔接块内部，通过第五转动轴上方的小孔流入到喷头处进行喷洒，当圆盘移动至第二喷洒装置处，将对
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117816685A
(43)申请公布日2024.04.05
(21)申请号202311753087.5
(22)申请日2023.12.20
(71)申请人浙江丽水中欣晶圆
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