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过滤装置和半导体研磨设备.pdfVIP

过滤装置和半导体研磨设备.pdf

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    本发明涉及半导体设备技术领域，具体而言，涉及一种过滤装置和半导体研磨设备；过滤装置包括箱体、缓冲机构和沉淀机构，箱体设置有箱体入口、箱体出口、缓冲腔和沉淀腔；箱体入口与缓冲腔连通，箱体出口与沉淀腔连通，且缓冲腔和沉淀腔连通；缓冲机构设置于缓冲腔内，缓冲机构用于缓冲从箱体入口进入缓冲腔的混合介质，并引导经过缓冲的混合介质进入沉淀腔；沉淀机构设置于沉淀腔内，沉淀机构用于使进入沉淀腔的混合介质中的颗粒沉淀。该过滤装置能可靠地过滤、去除介质中的颗粒物，以减少颗粒物造成水环真空泵的损坏。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117815769A

    (43)申请公布日2024.04.05

    (21)申请号202311867530.1

    (22)申请日2023.12.29

    (71)申请人湖南三安半导体有限责任公司

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