高反光场景下的线移条纹与格雷码条纹融合编解码方法.pdfVIP

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  • 2024-04-06 发布于四川
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高反光场景下的线移条纹与格雷码条纹融合编解码方法.pdf

本发明涉及高反光场景下的线移条纹与格雷码条纹融合编解码方法,依次包括以下步骤:步骤S1、通过解格雷码条纹获取级次K1和错半个周期级次K2;步骤S2、通过线移条纹L、级次K1、最小周期的格雷码图案G融合获得截断线位图W;步骤S3、通过K1,K2,W获取展开线位图P。本发明可以解决传统中相移结构光在高反光物体表面投影条纹会出现采集到的条纹信息出现缺失的问题;本发明可以解决传统线移结构光编码方式分布不均匀导致采集到的投影条纹受周围条纹影响出现消失或像素值与预期值偏差过大的问题;本发明可以解决现有的线移

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117824535A

(43)申请公布日2024.04.05

(21)申请号202211189450.0

(22)申请日2022.09.28

(71)申请人苏州深浅优视智能科技有限公司

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