一种测井井眼环境校正方法、系统、装置与介质.pdfVIP

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2024-04-06 发布于四川
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本申请公开了一种测井井眼环境校正方法、系统、装置和介质，方法包括步骤：获取测井的初始地层密度、井眼垮塌深度、泥质含量和密度、短长源距探测深度、泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙流体密度以及孔隙度；根据长源距探测深度、井眼垮塌深度、泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙流体密度以及孔隙度，确定长源距探测器的密度响应参数；根据短源距探测深度、井眼垮塌深度、泥浆密度、岩石骨架密度、孔隙流体密度以及孔隙度，确定短源距探测器的密度响应参数；根据长源距探测深度、短源距探测深度、两个密度响应参数，确定纯地层密度；根据初始地层

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117826261A

(43)申请公布日2024.04.05

(21)申请号202311486504.4

(22)申请日2023.11.08

(71)申请人广州海洋地质调查局

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