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本发明属于通用的炉技术领域，尤其为一种真空炉密封控制结构，包括炉体，炉体的顶部开口处设置有炉盖，炉体和炉盖安装密封圈的位置处均设置有截面为三角形的安装槽，密封圈安装在安装槽位置处，密封圈的横截面呈菱形，密封圈横截面的左右两端均设置有向内部收缩的凹陷部，密封圈的内部空间注入有液体，炉体内外的气体压力差变化时，凹陷部的大小能够改变，本发明通过改变密封圈的结构及密封的受力方式，来增加密封效果，同时能够满足炉体正压与负压切换时，具有良好的密封效果以及抗气体冲击的性能。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117845036A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202410205231.XC21D1/62(2006.01)
(22)申请日2024.02.2
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