坩埚装置.pdfVIP

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  • 2024-04-10 发布于四川
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本申请涉及碳化硅新材料技术领域的一种坩埚装置,包括:坩埚本体,所述坩埚本体包括内壁,所述内壁的围设区域形成长晶区,所述长晶区包括第一工作区和第二工作区,所述第一工作区的工作温度大于所述第二工作区的工作温度;涂层,所述涂层覆盖所述内壁,所述涂层的厚度在所述第一工作区大于所述第二工作区。本申请的坩埚装置可以提升对坩埚装置整体的防护,提高坩埚装置内部碳化硅的长晶的品质。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117845336A

(43)申请公布日2024.04.09

(21)申请号202311831851.6

(22)申请日2023.12.27

(71)申请人金华博蓝特新材料有限公司

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