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本实用新型涉及一种曝光机台，包括曝光台板，曝光台板上放置基板，曝光台板上设有至少两个第一对位标，用于曝光过程掩膜板对位使用；至少两个第一对位标分别相对设于靠近曝光台板短边中心位置，第一对位标形状设为十字形。第一对位标为与曝光台板一体制成。曝光台板设有突出部，突出部设有凹陷结构，第一对位标镶入凹陷结构。凹陷结构为正方形，第一对位标镶入正方形凹陷结构。掩膜板上设有至少两个第二对位标，第二对位标设为正方形；曝光过程中，第二对位标与第一对位标能够对齐。本实用新型提出的曝光机台曝光台板上设置对位标，曝光过
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220752516U
(45)授权公告日2024.04.09
(21)申请号202322328406.X
(22)申请日2023.08.29
(73)专利权人信利光电股份有限公司
地址5
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