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本申请涉及抛光技术领域,公开一种光学元件的高精度均匀数控抛光装置,包括:本体;模型建立模块,用于建立光学元件的实际三维图像以及预设的模拟三维图像;其中,实际三维图像为抛光前光学元件的三维图像;模拟三维图像为模拟的抛光后光学元件的三维图像;特征获取模块,用于根据预设的模拟三维图像获得实际三维图像的待抛光特征;控制模块,用于根据待抛光特征调节抛光时抛光装置的位置和压力。能够根据待抛光特征在不同位置的类型来调节抛光装置的位置和抛光压力,从而根据待抛光的光学元件表面每个位置的抛光需求对其进行抛光,提高抛
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117840823A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202410079055.X
(22)申请日2024.01.18
(71)申请人南京艾丝特光电有限公司
地址2
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