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本申请公开了一种真空镀膜设备，包括：真空室，具有相对的顶壁和底壁，以及设置在所述顶壁和底壁之间带有进料口的侧壁；破空管路，设置在真空室的内部靠近所述顶壁和侧壁的位置，且具有朝向所述顶壁的第一出气孔和朝向所述侧壁的第二出气孔。本申请在破空过程中，破空气流从第一出气孔和第二出气孔中流出并流向真空室顶部，远离真空室底部的粉尘聚集处。并且破空气流通过第一出气孔、第二出气孔分别流向顶壁和侧壁，从而将破空气流的冲击面积控制的顶壁和侧壁之间较小区域，并将大部分的气流冲击力进行缓冲，减少了真空室内粉尘的扬起，保
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220746051U
(45)授权公告日2024.04.09
(21)申请号202321985534.5
(22)申请日2023.07.26
(73)专利权人安徽越好电子装备有限公司
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