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本发明属于光学加工领域，具体为光学表面误差分布匀化延拓方法，首先将待延拓数据二值化，通过十字星形膨胀运算后的结果与原始二值化数据通过布尔异或运算获得待延拓像素，再根据待延拓像素数量随机排列序列进行随机获取当次待延拓像素点，并将附近十字星形范围内有值像素进行平均后赋予该像素点；重复迭代以上过程即可快速获得任意形状面形分布下的高效匀化延拓。本发明中无需识别计算各待延拓像素与面形数据点间距离及比对操作，基于布尔异或运算可最大化筛选速度，且随机排序操作可最大化匀化面形边缘的杂散点对延拓结果影响，使得延拓
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117840864A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202311690833.0
(22)申请日2023.12.11
(71)申请人中国科学院上海光学精密机械研究
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