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本发明提供一种用于惯性MEMS器件的敏感结构加工方法,该加工方法包括:步骤一、在衬底正面加工N个第一槽,用于对应待增厚的敏感结构释放;步骤二、在衬底正面除第一槽的位置加工引线;步骤三、在敏感结构层背面刻蚀第二槽,第二槽用于除待增厚的敏感结构之外的敏感结构释放;敏感结构层背面未加工第二槽的位置作为锚点;待增厚的敏感结构所在的位置需预留出锚点;步骤四、将敏感结构层背面与衬底正面进行键合,其中,任意第一槽与对应待增厚的敏感结构所在的位置的锚点正对,不发生键合;步骤五、对敏感结构层正面进行结构刻蚀,加工
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117842930A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202311648758.1
(22)申请日2023.12.04
(71)申请人北京自动化控制设备研究所
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