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一种低损伤蚀刻光伏电池片铜种子层的方法.pdf

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    本发明公开了一种低损伤蚀刻光伏电池片铜种子层的方法，涉及太阳能电池片电镀蚀刻技术领域，具体包括以下步骤：S01：去胶处理：对电镀后的电池片进行去胶处理；S02：反电解处理：对上述去胶后的电池片放入电镀铜的槽液中，通入适当电流，通电后电池片作为阳极，通过电荷移动，将电池片上的铜，转变成铜离子，氧化去除电池片上PVD铜种子层；S03：铜离子回收：在槽液中铜离子浓度达到一定量，开启正向电镀，用不锈钢板作为阴极，将槽液中铜离子电镀到不锈钢板上。本发明采用反电解的方法去除PVD铜种子层，是利用金属铜在得到

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117867631A

    (43)申请公布日2024.04.12

    (21)申请号202311770981.3

    (22)申请日2023.12.21

    (71)申请人苏州皓申智能科技有限公司

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