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MLCC载体膜用基膜及其制备工艺.pdfVIP

MLCC载体膜用基膜及其制备工艺.pdf

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    本发明公开了一种MLCC载体膜用基膜及其制备工艺，该基膜包括由上至下依次层叠设置的应用层、支撑层和抗黏连层；应用层的原料为大有光聚酯切片或是为大有光聚酯切片和一种或多种无机粒子的混合物，支撑层的原料为大有光聚酯切片，抗黏连层的原料为大有光聚酯切片和母粒切片的混合物。本发明制备的基膜的使用层(应用层)的表面粗糙度能达到：RA值≤15nm，RZ值≤100nm；本发明中，通过对工艺进行改进，能够在降低抗黏连剂添加量，甚至是不添加抗黏连剂的情况下，防止黏连发生，从而能够有效降低产品的表面粗糙度。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117863695A

    (43)申请公布日2024.04.12

    (21)申请号202410165470.7B29D7/01(2006.01)

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