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本发明公开了一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜及其制备方法，涉及胶粘剂技术领域，包括如下按重量份计的各原料制成：降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物30‑40份、共轭二烯类单体1‑3份、巯基化合物4‑6份、催化剂0.5‑0.8份、2,4,6‑三乙烯基环硼氧烷1‑3份、氨基封端的超支化聚酰亚胺3‑5份、2,6‑二(环氧乙烷‑2‑甲基)‑1,2,3,5,6,7‑六氢吡咯并[3,4‑f]异吲哚‑1,3,5,7‑四酮0.6‑1.2份、抗氧剂0.1‑0.4份、溶剂40‑60份。该光学胶膜耐老化性、
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115948124A
(43)申请公布日2023.04.11
(21)申请号202310124125.4
(22)申请日2023.02.16
(71)申请人湖南联兴光电科技有
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