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本实用新型涉及研磨机技术领域，且公开了一种研磨抛光机静压结构，包括固定件、回转件和主轴，所述固定件与回转件的上表面均通过开始的通孔套设在所述主轴的外部，所述固定件通过稳定机构与回转件连接，且所述回转件位于固定件的上方，所述回转件通过连接件与主轴固定，所述稳定机构包括定位块和定位槽。该研磨抛光机静压结构通过定位槽与定位块配合，保证回转盘上端面旋转时不会因为间隙产生歪斜，保证了精度的同时减少了成本，并且通过润滑层的作用，可以减少摩擦力，使回转更加平稳同时减少磨损，配合防护环的作用，可以减少液体与碎屑
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220762206U
(45)授权公告日2024.04.12
(21)申请号202321934614.8
(22)申请日2023.07.21
(73)专利权人西可装备制造（衡阳）有限公司
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