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本实用新型涉及一种晶圆划片结构及UV解胶机,晶圆划片结构,在减薄膜上设有晶圆,晶圆经切割后形成若干晶片及位于四周的残片;在晶圆之间设有切割槽,切割槽两边切割形成2条割道,2条割道之间的晶圆残片形成鱼骨状残硅。晶圆划片后的UV解胶机,底部设有UV灯;上部设有透光平台,底部设有盖板;透光平台上设有采用晶圆划片结构而形成的减薄膜及晶圆;在透光平台的下方,设有遮光网罩,遮光网罩上设有遮光条;UV灯发出的光线,被遮光条所遮蔽形成遮光区域,遮光区域与减薄膜上的鱼骨状残硅所在区域相对应。本实用新型结构简单,易
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220774305U
(45)授权公告日2024.04.12
(21)申请号202322470792.6
(22)申请日2023.09.12
(73)专利权人盛合晶微半导体(江阴)有限公司
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