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本实用新型公开了一种填埋场分隔坝结构,包括地基土层,所述地基土层的压实密度≥93%,所述地基土层的上方依次设有GCL膨润土垫、次防渗层、第一膜上保护层、淋溶液检测层、第一膜下保护层、主防渗层、第二膜上保护层、辅助导排层;所述辅助导排层的上方设有长度沿前后延伸的分隔坝主体,所述分隔坝主体的左、右方分别设有第一填埋库区、第二填埋库区,所述分隔坝主体的上方依次设有第二膜下保护层、HDPE膜渗防层,所述第一膜上保护层、所述第一膜下保护层、所述第二膜上保护层和所述第二膜下保护层均为土工布层。本实用新型的结
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220789645U
(45)授权公告日2024.04.16
(21)申请号202322439398.6E03F1/00(2006.01)
(22)申请日2023.09.0
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