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根据本发明的耐等离子体性涂布膜的制备方法包括：步骤a，通过物理气相沉积工艺将第一稀土类金属化合物的粉末涂布在涂布对象物来形成下部涂层；步骤b，移送第二稀土类金属化合物的粉末；以及步骤c，向在所述步骤a中形成的下部涂层喷射被移送的第二稀土类金属化合物的粉末，以形成上部涂层，从而能够获得结构缺陷少、物理性能增强的耐等离子体性涂布膜。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117888059A
(43)申请公布日2024.04.16
(21)申请号202311243119.7C23C14/34(2006.01)
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