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本申请实施例涉及一种高稳定性低功耗Mo‑Te‑Sb纳米相变薄膜及其制备方法与应用,属于微电子相变材料技术领域。本申请实施例的高稳定性低功耗Mo‑Te‑Sb纳米相变薄膜,所述纳米相变薄膜的化学通式为(MoTe2)xSby,其中,x表示MoTe2的原子个数,且0<x<1;y表示Sb的原子个数,且0<y<1。本申请实施例所提供的纳米相变薄膜,基于Sb金属靶材上放置不同MoTe2金属靶材的数量配比,MoTe2组分比例的增加阻碍了载流子的定向移动,加大了晶化的障碍,使得薄膜拥有更好的热稳定性和更小的电阻漂
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117897041A
(43)申请公布日2024.04.16
(21)申请号202410028011.4B82Y40/00(2011.01)
(22)申请日
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