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本发明公开了半导体超高纯产品超声波清洗工艺,涉及超声波清洗设备技术领域,该清洗工艺包括以下具体步骤:步骤一:将待清洗工件由上料小车推送至超声波清洗机的进料口端,并提前往超声波清洗机中的清洗槽内注入清洗剂。本发明通过设置移动机构、进料机构和出料机构,电机带动转动架每转动九十度后停止,间歇进行转动操作,当转动架不进行转动时,活动架将放置框推入对接座内,将对接座固定在放置框的内腔;当放置框转动进入清洗槽时,超声波清洗机对产品进行清洗操作,当放置框转动至靠近出料轨位置处,放置框落入出料轨中,便于自动对产
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117900194A
(43)申请公布日2024.04.19
(21)申请号202410100188.0
(22)申请日2024.01.24
(71)申请人禹银材料科技(上海)有限公司
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