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全球市场研究报告
剥离光刻胶产品描述
LOR（剥离光刻胶）是一种用于微加工工艺的光刻胶。光刻胶是光敏材料，用于在微电子和微机电系统(MEMS)
制造中将图案转移到基板上。LOR光刻胶通常用于剥离工艺，这是一种图案转移技术。此过程中，首先将一
层LOR光刻胶涂覆到基板上。然后通过图案化掩模将光刻胶曝光，使其选择性地交联。显影后，光刻胶的
曝光区域被去除，留下图案层。剩余的图案化LOR光刻胶充当后续处理步骤（例如材料的蚀刻或沉积）的
掩模。完成所需的处理步骤后，可以使用溶剂轻松剥离LOR光刻胶，留下图案化的基板。
图.剥离光刻胶产品图片
剥离光刻胶全球市场总体规模
据QYResearch调研团队最新报告“全球剥离光刻胶市场报告2024-2030”显示，预计2030年全球剥离光
刻胶市场规模将达到5.1亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为8.8%。
Copyright©QYResearch|market@|
全球市场研究报告
图.剥离光刻胶，全球市场总体规模
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收入（百万美元）增速
如上图表/数据，摘自QYResearch最新报告“全球剥离光刻胶市场研究报告2024-2030.
Copyright©QYResearch|market@|
全球市场研究报告
图.全球剥离光刻胶市场前11强生产商排名及市场占有率（基于2023年调研数据；目前最新数据以本
公司最新调研数据为准）
全球市场主要企业排名
MerckKGaA
NagaseChemteXCorporatio
TokyoOhkaKogyo
KayakuAdvancedMaterials
JSRMicroNV
Shin-EtsuMicroSi
ZeonCorp
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