现代半导体器件十九讲.pdfVIP

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现代器件

刘飞

:liufei@mail.sysu.edu.cn

中山大学理工学院

第五章结型场效应晶体管

5.1JFET结构与工作原理

5.2MESFET

5.4直流特性的非理想效应

5.5JFET交流小信号特性

克莱缓变沟道近似模型:(长沟道JFET)

1.模型建立的基本物理前提:

(1)沟道杂质均匀分布,栅结为单边突变结;

(2)沟道中载流子的迁移率为常数;

(3)忽略有效沟道区外(源、漏区及欧姆接触)的电压降;

(即器件全部电压降都发生在有效沟道区)

(4)进行缓变沟道近似(GCA)即,ExEy。



xy

(即电场沿x方向的变化率远大于沿y方向的变化率)

2.JFET的直流特性计算前的规定:

(1)坐标轴规定:

a.x方向:为沟道厚度方向;

b.y方向:为沟道长度方向;

c.z方向:为沟道宽度方向。

(2)基本物理参数规定:(a=b(y)+h(y))

a.a:冶金沟道半厚度(沟道区最大半厚度);

b.b:沟道半厚度(实际y处的沟道半厚度);

c.L:沟道长度;

d.W:沟道宽度;

e.h:栅耗尽区厚度(栅结耗尽区x方向的扩展距离)

L

P+

O

hy

a

Sb

xN

P+VGS

G

JFET直流特性的坐标系

3.JFET的直流特性的具体计算:

(1)物理过程分析:

a.栅区:高掺杂、电阻率很低,为等电势(即无电压降);

b.栅结:由源端到漏端,耗尽区厚度逐渐增大;

(当y=0时,V(y)=0,当y=L时,V(y)=V)

DS

c.沟道区:当V不变时,沟道电阻随V增大而增大。

GSDS

(2)具体计算过程:(以对称D型N沟JFET为例)

a.沟道中y处的电流密度:J(y)−qNdV(y)

nnD

而势垒区宽度1dy

2(V(y)+V−V)2

h(y)0s

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