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本发明公开了一种基于不确定性补偿的超精密光刻装备学习控制系统及方法，所述系统包括运动轨迹生成部分、学习控制部分、反馈控制部分和不确定性补偿部分，运动轨迹生成部分包括运动轨迹生成器Cr，运动轨迹生成器Cr产生参考运动轨迹yd(t)，yd(t)减去位置测量信号yε,k(t)得到位置误差信号ek(t)，ek(t)输入给学习控制部分，学习控制部分产生前馈信号eff,k(t)，eff,k(t)与ek(t)相加得到修正误差信号efb,k(t)，efb,k(t)输入给反馈控制部分，反馈控制部分包括反馈控制器C
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118068656A
(43)申请公布日2024.05.24
(21)申请号202410208941.8
(22)申请日2024.02.26
(71)申请人哈尔滨工业大学
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