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本实用新型涉及瓷砖抛釉领域,具体公开了一种实用性强的抛釉磨具,包括夹持头、缓冲垫、打磨块,缓冲垫固定于夹持头与打磨块之间,打磨块设置为圆台型结构,打磨块远离缓冲垫的一端设置有倒角部,打磨块设置有多排,打磨块的直径沿远离缓冲垫的水平中轴线方向逐排减小,缓冲垫上相邻两排打磨块之间设置有第一排屑槽,每排上相邻两打磨块之间设置有第二排屑槽,第一排屑槽与第二排屑槽相互连通。通过本实用新型的技术方案,能够使多排打磨块同步消耗,进而能够使该磨具对瓷砖的抛光打磨效果更好更加均匀,能够使该磨具的抛光效率更高,并且
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220994145U
(45)授权公告日2024.05.24
(21)申请号202322877767.X
(22)申请日2023.10.26
(73)专利权人佛山市盛科新材料有限公司
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