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本发明涉及钝化接触晶硅电池片成型工艺及电池片、光伏组件和系统,其电池片包括硅片本体、隧穿氧化硅层和多晶硅层、钝化接触层、金属电极。本发明一方面由金属接触区域采用隧道结构层,且多晶硅掺杂层的厚度较厚,掺杂浓度较高,同时实现低的金属复合以及低接触电阻率,然后隧道结构层的中间氧化层可以抑制银离子的纵向扩散和腐蚀,进一步降低金属复合;另一方面结合非金属接触区域的多晶硅厚度较薄,且掺杂浓度较低,因此在保持低表面复合同时降低自由载流子吸收损失,可以进一步提升电池的短路电流,同时无需繁琐丝网印刷和使用高昂的掩
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118073477A
(43)申请公布日2024.05.24
(21)申请号202410341194.5H01L31/048(2014.01)
(22)申请日2024.03
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