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光阻的形成方法、光阻溶液以及图案化光阻的形成方法.pdfVIP

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  • 2024-05-25 发布于四川
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光阻的形成方法、光阻溶液以及图案化光阻的形成方法.pdf

    本揭露关于一种光阻的形成方法、光阻溶液以及图案化光阻的形成方法。光阻溶液包含金属光阻剂，其中金属光阻剂可包含金属核心基以及一或多个配位基，其中一或多个配位基的每一者为饱和的，且实质包含1至8个碳原子及至少2个氮原子。另一种方式，交联剂可并用金属光阻剂，交联剂包含金属核心基以及多个交联基，且交联剂实质具有1000或小于1000的分子量。后续在形成显影的光阻层的期间，可添加包含碳酸根阴离子或碳酸氢根阴离子的添加剂。此些方法的每一者独立地或共同地改善金属光阻剂的热安定性，进而改善线宽解析度。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN118068648A

    (43)申请公布日2024.05.24

    (21)申请号202311487819.0G03F7/32(2006.01)

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