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本实用新型公开了一种光刻板清洗装置，涉及光刻板清洗技术领域。本实用新型包括箱体，所述箱体的下面固定连接有底板，所述底板的内部开设有第一储水空腔，所述底板的内部位于第一储水空腔的上方开设有第一动力空腔，所述箱体内壁的上方开设有第二储水空腔，所述箱体内壁的上方位于第二储水空腔的下方开设有第二动力空腔，所述第一动力空腔内壁的下方固定连接有第一水泵，所述第二动力空腔内壁的下方固定连接有第二水泵，所述箱体内壁的上方的左右两侧和底板上面的左右两侧均固定连接有固定槽块。本实用新型避免手动翻转清洗反面对光刻板清
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220992044U
(45)授权公告日2024.05.24
(21)申请号202322780352.0B08B13/00(2006.01)
(22)申请日2023.10.
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