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- 2024-05-25 发布于四川
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本发明提供一种透明叠层钝化膜结构及其制备方法和应用，透明叠层钝化膜结构包括依次层叠设置在硅衬底表面的第一钝化层、第二钝化层和第三钝化层，所述第一钝化层的材料为氢化氧化硅薄膜，所述第二钝化层的材料选自氢化碳氮硅薄膜、氢化碳硅薄膜、氢化氮硅薄膜、氢化碳氮氧硅薄膜、氢化碳氧硅薄膜、氢化氮氧硅薄膜中的一种，所述第三钝化层的材料选自氢化氧化铝薄膜、氢化氮化硅薄膜、氢化氧化硅薄膜中的一种或多种叠层薄膜。本发明的透明叠层钝化膜结构具有优异的表面钝化和体钝化效果，可显著降低硅片表面和提高硅片体寿命，有利于提升硅
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118073430A
(43)申请公布日2024.05.24
(21)申请号202410044219.5C30B28/02(2006.01)
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