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一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统.pdfVIP

一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统.pdf

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    本发明提供一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统，涉及真空镀膜技术领域，包括：真空腔、抽气装置、供气装置、磁过滤管道和电弧靶、磁控溅射靶，真空腔用于容纳工件并提供镀膜场所；抽气装置与真空腔能够连通地连接并用于抽取真空腔内的气体以控制真空腔内的真空度；供气装置用于朝真空腔内输送气体；磁过滤管道的第一端与真空腔连通，第二端朝远离真空腔的方向延伸，其上绕设有多组磁过滤线圈组，多组磁过滤线圈组沿着磁过滤管道延伸的方向依次布设，磁过滤线圈组由脉冲电源供电；电弧靶用于蒸发并发生电离，磁控溅射靶用于溅射

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN118086850A

    (43)申请公布日2024.05.28

    (21)申请号202410417311.1

    (22)申请日2024.04.08

    (71)申请人吉林大学

    地址130012

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