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本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种手动单面单曝光光刻机，包括平台，平台上安装有XYQ调节机构、平行光源、升降机构和移动机构，升降机构与浮动机构相连，承片台安装在浮动机构上，掩模板机构安装在XYQ调节机构上，掩模板机构位于承片台上方，平行光源位于掩模板机构上方；移动机构上设有左对位镜头和右对位镜头，左对位镜头和右对位镜头位于掩模板机构的一侧。本实用新型的手动单面单曝光光刻机，使用时通过XYQ调节机构调节掩模板机构到位后，承片台通过浮动机构自动找平，人工将硅片放置在承片台上并推到位，然后升降机
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN221039788U
(45)授权公告日2024.05.28
(21)申请号202322861480.8
(22)申请日2023.10.23
(73)专利权人四川鸿源鼎芯科技有限公司
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