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本发明专利涉及一种刻蚀终点可控的三电极金属探针刻蚀设备，包括电极Z轴位移支架，用于控制电极上下移动，调节金属丝没入液面深度，从而控制金属探针长度；Z轴位移电解池，用于控制电解池液面上下移动，进一步实现金属探针长度控制调节；夹爪电极，用于夹持金属丝，刻蚀具有导电特性的探针；微电解池电极，用于刻蚀附着于绝缘支撑物的金属探针；复用电极，用于与夹爪电极形成单电解池，或与微电解池电极构成串联电解池；刻蚀控制电路，用于控制电解进程。本发明专利使用控制电路，摆脱繁琐的上位机程序与硬件，更加方便快捷的实现探针刻
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118081004A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202410054493.0
(22)申请日2024.01.15
(71)申请人南开大学
地址300350
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