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本申请提供的三维结构，包括基底、隔离结构、第一周期性材料层、第一隔离层、第二周期性材料层、第二隔离层、第一电极和第二电极；隔离结构形成于基底上，隔离结构具有至少一个凹槽；第一周期性材料层形成于凹槽内，并与隔离结构形成一个平面；第一隔离层形成于平面上；第二周期性材料层形成于第一隔离层上的特定位置，第二周期性材料层沿凹槽的短边方向的两个侧面中的至少一个侧面呈台阶状结构；第二隔离层形成于第一隔离层之上；第一隔离层和第二隔离层内部形成有第一导线组及第二导线组，第一电极，形成于对应第一导线组的第二隔离层上
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117976610A
(43)申请公布日2024.05.03
(21)申请号202410383919.7
(22)申请日2024.04.01
(71)申请人苏州凌存科技有限公司
地址21
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