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一种用于沉积材料的等离子体气相沉积(PVD)腔室，包括用于在基板上沉积期间影响离子轨迹的设备。设备包括至少一个环形支撑组件以及磁场产生器，环形支撑组件被配置为从外部附接到基板支撑基座并定位在基板支撑基座下方，磁场产生器被固定到环形支撑组件并被配置为在基板的顶表面上辐射磁场。磁场产生器可包括多个对称间隔开的分立的永久磁铁，或者可以使用一个或多个电磁铁来产生磁场。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118103544A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202280065542.X(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理
(22)申请日2022.07.
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