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- 2024-06-18 发布于北京
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晶硅电池厚度与效率的关系
晶硅电池厚度与效率的关系Conclusion:在常规钝化工艺(SiNx+AL-BSF)基础上,硅片厚度大于200um时电池效率基本不变;硅片厚度小于200um后,随着硅片厚度的下降,效率呈较明显的下降趋势。Rootcause:1、背表面的少子复合影响;2、透射光引起的损失。InfluenceofWaferThicknessonthePerformanceofMulticrystallineSiSolar(anExperimentalStudy)Prog.Photovolt:Res.Appl.2002;10:279–291(DOI:10.1002/pip.421)References:SiNx+AL-BSF工艺
晶硅电池厚度与效率的关系Analysis-背表面的少子复合:(少子的扩散长度L、硅片厚度W、背表面的复合速度Sr)LW:Sr几乎对电池效率无影响;L→W:Sr对电池效率的影响会愈加的明显;如果Sr比较高,则会降低电池的效率,较低的Sr可以减少Eff的损失(甚至可以提高Eff)。临界的Sr?临界的Sr=D/L,其中D为基体少子的扩散系数。对于电阻率为1Ω.cm的硅基体,其D=27cm2/s,多晶硅的少子扩散长度L介于150~300um之间。因此可以计算得到Sr的临界值约为1000cm/s。AL-BS
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