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还原工艺（2024新版）练习试卷附答案
单选题（总共1题）
1.SiHCL3和H2混合气体在还原炉中的最佳反应温度范围是（）。(1分)
A、
1050-1100℃
B、
800-1000℃
C、
1100-1300℃
D、
700-900℃
答案：A
解析：?暂无解析
填空题（总共15题）
1.在雷雨天，不要走进高压电杆、铁塔、避雷针的接地导线周围____米内。(1分)
答案：20
解析：?暂无解析
2.我公司生产多晶硅的方法为：____。(1分)
答案：改良西门子法
解析：?暂无解析
3.设备管理中的四懂：____、____、____、____。(1分)
答案：懂原理|懂构造|懂性能|懂
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