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TFTLCD阵列工艺介绍;;01;;;;02;;;开口率是指像素电极占整个像素面积的比例。开口率越高，像素点透光率越高，显示亮度越高。阵列工艺的优化可以提高开口率，从而提升显示亮度。;03;在前段制程中，首先需要在玻璃基板上沉积薄膜。这些薄膜包括金属薄膜、绝缘薄膜和半导体薄膜等。沉积方法可以采用物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等。;;;04;检测设备;一般采用玻璃或石英等透明材料，具有高透光性、低膨胀系数和良好的耐候性。;设备选用依据;05;;;增强可靠性和稳定性;06;;OLED显示技术;;THANKS
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