7.4 金属半导体整流和非整流接触.pdfVIP

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第七讲金属和半导体的接触

7.4金属半导体整流和非整流接触

1.整流接触

(a)金属和n型半导体接触

V>0

V=0

−q[(V)+V]

q(V-V)

势垒降低s0

D

qV=−q(V)

qΦnsEDs0qΦnsEc

cE

EF(E)qVFn

Fm

E

v

E

v

W

J>J

电子s→mm→s

电子数半导体→金属=电子数金属→半导体正向电流J=Js→m-Jm→s

V<0

势垒增高−q[(V)+V]

s0整流效应

qΦns

(E)

Fm-qVEc正向:半导体一边的势垒随外加

EFn电压的增加而减小。

E

v反向:金属一边的势垒不随外加

电压变化,从金属到半导体的电

子流是恒定,出现反向饱和电流。

电子Jm→s>Js→m

反向电流J=J-J

m→ss→m

(很小)

(b)金属和p型半导体接触

表面势(V)>0接触势垒(阻挡层)

s0

EE

00

E

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