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透射电子显微镜-TEM;内容;8.1TEM简介;电子显微镜发展史;透射电子显微镜
(TransmissionElectronMicroscope,TEM);为什么采用电子束而不用自然光?;1、显微镜的分辨率;自然光与电子束的波长;采用物镜的孔径角接近90度
考虑采用可见光波长极限390nm的光束照明显微镜系统,可得d≈200nm
对于TEM在100kV加速电压下,波长0.0037nm,d约为0.002nm,目前电子显微镜达不到其理论极限分辨率,最小分辨率达到0.1nm
;2、有效放大倍数;有效放大倍数;为什么采用电子束做为光源?;;EM420透射电子显微镜
(日本电子)
加速电压20KV、40KV、60KV、
80KV、100KV、120KV
晶格分辨率2.04?
点分辨率3.4?
最小电子束直径约2nm
倾转角度α=±60度
β=±30度;FEITitan80-300kVS/TEM
世界上功能最强大的商用透射电子显微镜(TEM)。已迅速成为全球顶级研究人员的首选S/TEM,从而实现了TEM及S/TEM模式下的亚埃级分辨率研究及探索。;内容;8.2透射电子显微镜结构原理;(一)电子光学系统;1.照明系统;(1)阴极;(2)阳极;(3)控制极(栅极);(4)聚光镜;(4)聚光镜;2、成像系统;(1)物镜;(2)中间镜;(3)投影镜;成像系统;成像系统;成像系统;该像虽然含有单胞尺度的信息,但不含原子尺度的信息,称为晶格像。
一般V越高,Z越低,电子束可以穿透的样品厚度越大。
又称萃取复型,用碳膜把经过深度侵蚀试样表面的第二相粒子(如杂质)黏附下来。
5透射电子显微镜图像分析
在透镜下可观察第二相粒子形状,大小,分布及其与样品组织结构的关系。
是样品不同微区存在原子序数和厚度的差异形成的。
(1)定义:对物体表面特征进行复制的一种制样方法。
方法:机械法(手工磨制)和化学法
80KV、100KV、120KV
①表面显微组织浮雕的复型膜,只能进行形貌观察和研究,不能研究试样的成分分布和内部结构。
表示两波之间的相位差,其大小与样品的
功能:把中间镜形成的二次像及衍射谱放大到荧光屏上,成为试样最终放大图像及衍射谱。
电磁透镜的分辨本领比光学玻璃透镜提高一千倍左右,可以达到2?的水平,使观察物质纳米级微观结构成为可能。
2-1mm的粒子,将其均匀地分布在火棉胶(或碳)支持膜上,在高放大倍数下拍照???然后经光学放大(5倍左右),找出粒子间最小间距,除以总放大倍数——点分辨率
该像虽然含有单胞尺度的信息,但不含原子尺度的信息,称为晶格像。
Cowley提出相位衬度理论的多层次方法模型,发展了高分辨电子显微象的理论与技术。
成像系统的两个基本操作是将衍射花样或图像投影到荧光屏上。
制样过程要防止污染和改变样品的性质,如机械损伤或热损伤等;
电子枪的重要性仅次于物镜。
二维晶格像(单胞尺度的像);3、观察纪录系统;(二)真空系统;(三)操作控制系统;二、透射电子显微镜分辨率和放大倍数的测定;2、晶格分辨率的测定
利用外延生长方法制得的定向单晶薄膜作为标样,拍摄其晶格像。因位相差引起的干涉条纹,实际是晶面间距的比例像。;3、放大倍数的测定;内容;8.3透射电子显微镜样品制备;透射电子显微镜样品制备;加速电压20KV、40KV、60KV、80KV、100KV、120KV
LaB6或W灯丝
晶格分辨率2.
该像虽然含有单胞尺度的信息,但不含原子尺度的信息,称为晶格像。
平行线直线间距相等
(1)原理:通过电解液对金属样品的腐蚀,达到减薄目的
(1)原理:利用化学溶液对物质的溶解作用达到减薄样品的目的。
弱激磁的长焦距变倍透镜,0~20倍可调。
主要作用:提供获取信息,一般由荧光屏,照相机,数据显示等组成
一般V越高,Z越低,电子束可以穿透的样品厚度越大。
缺点:速度慢,减薄一个样品需十几个小时到 几十个小时。
相位衬度:由穿透样品的电子波的相位不同而产生的电子显微像,它可揭示≤1nm的样品细节,故又称高分辨像。
13晶格分辨率测定金(220),(200)晶格像
(1)原理:利用化学溶液对物质的溶解作用达到减薄样品的目的。
常用肖特基源(热阴极)
电子显微镜(ElectronMicroscope,EM):利用电子与物质作用所产生的信息来鉴定微区域晶体结构(CrystalStructure,CS)、精细组织(FineStructure,FS)、化学成分(ChemicalComposition,CC)、化学键结(ChemicalBonding,CB)和电子分布情况(ElectronicStructure,ES)
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