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论文摘要溅射镀膜技术在微机电系统中应用及其效果》本文主要介绍了溅射镀膜作为一种薄膜制备技术的研究和应用其基本原理是利用特定的物质激发空气电离释放出的气体粒子，使靶材表面的原子或分子获得足够能量而逸出，进而沉积在衬底上在溅射镀膜的过程中，气体电离是必不可少的条件通过调整电源的电压和频率，使得氩气的电离速度达到一定的阈值，从而有效地将电子导入到目标靶材中目前，多种溅射镀膜技术已被广泛应用，并且取得了显著的效果其中，直流溅射和射频溅射两种方式进行溅射，两者在性能上有
MEMS器件中多层金属薄膜溅射工艺争论
张旭;罗昕颉;侯占强;肖定邦;吴学忠
【摘要】Sputteringprocessisthemainwaytofabricatemetalthinfilmofmicro-electro-mechanicalsystem(MEMS)device.MetalthinfilmisthemaskandfunctionallayerofMEMSdevice,whichrequiresthatthefilmhassmallstress,goodadhesion,uniformityandweld
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