【英语版】国际标准 ISO 14706:2014 EN 表面化学分析 利用全反射 X 射线荧光 (TXRF) 光谱测定硅晶片表面元素污染情况 Surface chemical analysis — Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy.pdf

ISO14706:2014是国际标准化组织(ISO)制定的标准，主要涉及到表面化学分析，特别是通过全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅晶圆片上的表面元素性污染物的确定。这个标准详细规定了TXRF光谱学的应用，包括测试方法的原理、实验设备、材料和样品准备、操作过程、数据分析和结果解释等方面。具体来说，这个标准详细说明了如何使用TXRF技术来识别和分析硅晶圆表面上的元素，特别是那些可能影响其性能和制造过程的元素。这个标准也强调了对实验误差和不确定性的理解，以及如何根据这些结果来评估生产过程的质量和稳定性。这个标准还提供了一些有关如何处理和分析数据，以及如何与ISO17025和其他相关标准兼容的建议。ISO14706:2014标准提供了一种可靠和精确的方法，用于评估和分析硅晶圆表面的元素性污染，这对于质量控制、生产过程优化和环保监测等领域具有重要意义。